熱舟蒸發源-真空組件 參考價：面議
熱舟蒸發源-真空組件應用范圍： 薄層沉積； 光學涂覆； 混合層沉積； 金屬電極接觸。
俄歇電子能量譜-真空組件 參考價：面議
俄歇電子能量譜-真空組件俄歇電子能量譜是一種利用高能電子束為激發源的表面分析技術. AES分析區域受激原子發射出具有元素特征的俄歇電子。俄歇電子在固體中運行也同...
等離子體原子/離子源-真空組件 參考價：面議
等離子體原子/離子源-真空組件產生感應耦合等離子體,包括氮氣,氧氣和氫氣等分子氣體。使用1個射頻線圈（頻率13.56MHz）,能量將轉化為等離子體，這會產生僅具...
半球型電子能量分析譜-真空組件 參考價：面議
半球型電子能量分析譜-真空組件大型高透射半球形電子能量分析譜--120mm半徑.¨ 全程180度反轉角度.¨ 邊緣界線區域校正--使用Jos...
電子束蒸發源-真空組件 參考價：面議
電子束蒸發源-真空組件電子束蒸發源對于使用常用熱蒸發技術非常難蒸發的材料,電子束蒸發是一種有效的蒸發手段.通過高能電子束射向靶材來升高靶材溫度.相比于通常輻射或...
磁控濺射靶源-真空組件 參考價：面議
磁控濺射靶源-真空組件我司提供的磁控濺射源是目前一和超高真空系統（1e-11torr）匹配的商業用濺射源。 在不配置彈性墊圈的結構中，可烘烤至250℃。在匹配的...
IG2離子源-超高真空 參考價：面議
IIG2離子源-超高真空典型應用是氬離子濺射清洗表面（中科院物理所配置多套IG2型離子源）濺射清洗 /表面準備，用于表面科學，MBE ，高真空濺射過程離子輔助沉...
真空腔體水氣解吸附組件 參考價：面議
真空腔體水氣解吸附組件Zcuve是近年來上較多使用的水蒸氣解吸技術。*的設計可從2.75“擴展到8"法蘭尺寸，具有比例較高的紫外線功率因數
半球電子能量分析器-真空組件 參考價：面議
半球電子能量分析器-真空組件半球電子能量分析器半徑: 120mm反轉角度: 180 deg.
磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件 參考價：面議
磁控濺射源（1英寸/2英寸/3英寸）-真空組件磁控濺射源/靶槍（1英寸/2英寸/3英寸）我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1“, 2“ and 3“. 以及矩...
真空腔體水氣解吸附組件2 參考價：面議
真空腔體水氣解吸附組件2ZCUVE代表了水蒸氣解吸技術的新進展。*的設計可從2.75“擴展到8"法蘭尺寸，紫外線功率因數w按比例增加
射頻離子/原子源（可轉換）-真空組件 參考價：面議
射頻離子/原子源（可轉換）-真空組件射頻離子源：用于離子束沉積，離子束輔助沉積，MEMS射頻原子源：用于合成氧化物，氮化物，氫原子清洗
X射線光源-真空組件 參考價：面議
X射線光源-真空組件X射線光源（可用于X射線電子能譜） 雙陽極X射線光源多種陽極材料具有差分抽氣或者從安裝口抽氣70mm O.D. CF安裝法蘭
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